EUV(極端紫外線=Extreme Ultra Violet)は、半導体の微細化技術で用いられる光の一種。現在の最先端半導体の回路線幅は5 nm(ナノメートル、ナノは10億分の1メートル)まで進んでいるが、EUV露光という13.5nmと波長の短い光源を用いた回路転写技術を用いることで、理論上は3 nmまで細くできるとされる。線幅が細くなれば情報量を増やすことができ、同じ情報量なら小型化できることから、半導体各社はEUVに関する投資を活発化させている。

日本電子

レーザーテック

大日本印刷

凸版印刷

ホロン

ＨＯＹＡ

ニコン

ウシオ電機

東洋合成工業

大阪有機化学工業

ＪＳＲ

三井化学

ＡＧＣ

東京応化工業

信越化学工業

フルヤ金属

ジェイテックコーポレーション

EUV(極端紫外線=Extreme Ultra Violet)は、半導体の微細化技術で用いられる光の一種。現在の最先端半導体の回路線幅は5 nm(ナノメートル、ナノは10億分の1メートル)まで進んでいるが、EUV露光という13.5nmと波長

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